本文目录
- 为什么咱们中国没有像佳能与尼康这样的单反相机制造品牌
- 佳能珠海停产，员工最高补偿150万，打脸了多少国内企业
- 佳能尼康中国关厂，补偿150万！这些人会感恩日本人一辈子吗
- 中国能否跟佳能和尼康公司合作研发高端光刻机
为什么咱们中国没有像佳能与尼康这样的单反相机制造品牌
类似的问题以前回答过。
题中所说的“单反”，应该是指数码单反。
因为胶片时代，中国也是有单反相机品牌的，像海鸥、珠江、凤凰等等胶片相机，在上世纪八、九十年代之前也是有一定市场的。
但在胶片相机发展的后期，国产相机品牌除了机械和光学加工工艺技术本身固有差距越来越大以外，在电子技术的研发与应用上，与日本厂家就更加无法相比了。例如自动对焦、自动测光、自动卷片等等专利技术，国产品牌都不掌握，相机上也都无法运用这些技术。
摄影器材进入数码时代后，其相机的成像技术完全电子化，数字化，在CCD、CMOS等感光元件上，在图像处理器上，在对焦、测光系统上，在储存系统上……，应该说在数码摄影的所有应用上，国内厂家的技术研发和储备都是近于零的。
当然，你可以说，没有我们可以上马，可以研发呀！
但是且不说研发的效果，只说研发的成本，你的产品具有市场竞争力吗？
其实在国际上，具备研发生产能力，同时也具有市场竞争力的，在135单反领域目前只有日本的佳能和尼康，连奥林巴斯、宾得这样的老品牌也都岌岌可危了，红极一时的美能达更是早已挺不下去而被索尼收购了。还有美国的著名品牌柯达，这可是最早研发数码相机并将其民品化的厂家哦，不是也被拍死在沙滩上了吗？！
从全世界范围来看，135单反这一块，既具备研发能力也具备市场竞争力的的确只有日本的佳能与尼康了。除外，索尼是避其锋芒，全力研发微单并逐渐做大；富士也是走错位发展的路子，避开了135全幅机，而只开发C画幅和中画幅，可以理解为夹缝中求生存。
再举目全球，看看日本以外，传统相机生产国德国，其徕卡相机、蔡司镜头，成为摄影中的奢侈品，一般人望而却步；瑞典的哈苏，丹麦的飞思，只能在中画幅上刷存在感。所有这些现象，都说明，135单反（现在还包括微单），那就理所当然是日本品牌的天下。这既关乎科技水平与工艺技术，同时也关乎市场竞争力。
别说我们两弹一星能造，东风红旗能造，歼20能造，航母也能造，就一定能造数码单反相机。这完全是两个领域，两个概念。再强调一遍：技术专利、研发能力、工匠精神、市场竞争力，缺一不可。
佳能珠海停产，员工最高补偿150万，打脸了多少国内企业
这就是外资和国内企业的区别，看看现在的广东，大小国内的厂家老是说招工难，招不到人了，外资厂一招人就大排长龙，有够打脸的，明明薪资差不多，甚至有时外资厂还要低一些，但人们还是都跑外资那边。
佳能尼康中国关厂，补偿150万！这些人会感恩日本人一辈子吗
会。因为关厂对工厂主和工人都将损失未来，通常工人抗风险的能力更弱。补偿不一定能帮助工人完全克服困难，至少能减轻负担。
虽然日本工厂只是按照规定进行的补偿，是应该的。可是比起国内那些平时让工人996还不给加班费的黑心老板要好很多，比那些卷钱跑路的老板也好很多。
侵略者可恶，但是那些二鬼子更可恶。
中国能否跟佳能和尼康公司合作研发高端光刻机
不能！因为佳能、尼康这两家公司目前在光刻机上也非常颓废。
全球光刻机按照市场领域来份，荷兰ASML处于中高端领域，尼康和佳能则是中低端市场，中国的上海微电子则只能吃低端市场份额。日系企业现在虽然能立足中低端市场，但从整体大趋势来看也是非常颓废。此外，就技术垄断和利益分配角度出发，中国也没必要和日系企业分享技术。
1、日系企业当前的现状
现阶段佳能已经彻底退出了芯片光刻机领域，仅仅保留了i线光刻机和KrK光刻机，这两个产品线都属于低端的半导体光刻机。
而尼康的情况算是略好，还在苦苦的支撑，目前的产品线有芯片光刻机、面板光刻机，但是在这两块产品线上芯片光刻机的销量非常惨淡，2016~2017年时经出现了零销售，面板光刻机销售情况略好，还能卖出30多台。
这种不赚钱的买卖肯本无法维持产品线的持续研发！如果日系厂商和中国合作，怎么确保他们能投入只够过的资金来支持呢？不会只要求我们中国投入资金吧？
2、日系厂商并无高端光刻机技术
日系厂商在和ASML的竞争中落败，核心在于它们在光刻机技术路线之争中落败下来，荷兰ASML当年使用的浸入式光刻取得了成功，后又逐步发展出液浸式光刻、EUV以及现在最新的极紫外光，至此ASML全面掌控高端光刻机市场，而日系企业当年选择的光源干式光刻机彻底失败。
此外，荷兰ASML在发展技术的同时，也非常懂得合作共赢，其拉拢了半导体行业的一些巨头入股，这其中就包括了台积电、Intel、三星，强强联手有代工厂商和芯片研发厂商的支持怎能不成功？
从技术角度出发，日系厂商的光刻机技术算不上先进，即便分享出来对于我们现在的技术路线也并无太大帮助，早前累积的那些技术也都属于过时的了。
3、上海微电子自身发展情况
我国光刻机目前虽然处于落后状态，也只能量产90nm制造工艺的光刻机（见下图），但是从长远发展规划来看，潜力还是很大。现阶段上海微电子已经完成了65nm制造工艺的设备验证，同时也已经开始研发28nm工艺。
此外，从我国整个半导体产业角度出发，非常有必要在这块拥有自己独立核心的技术，近阶段的美国对华为的封堵其实就已经很说明问题了，没有核心技术就可能受到人家的打压。如果和日系企业合作，那你这个技术始终算不上完全掌握，一旦合作断裂仍可能出现部分空白。
Lscssh科技官观点：
综合来说，不管是日系企业现状，还是从我国自身的安全角度出发，都没必要和日系企业合作研发高端光刻机。现阶段的上海微电子在国家支持下正在稳步的向前发展，未来如果能持续得到上下游产业以及国家资金的支撑，超过日系企业是大概率事件，而与荷兰ASML的差距也必然会逐步缩小。
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